天津進口灰度光刻3D打印

    基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準?！半m然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產?！?。 聚焦Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司，給您講解灰度光刻技術。天津進口灰度光刻3D打印

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。北京Nanoscribe灰度光刻設備Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術。

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明，可以通過空間調節(jié)其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是，實現該概念非常具有挑戰(zhàn)性，因為它需要對納米像素進行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數需要化學開發(fā)過程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。北京Nanoscribe灰度光刻設備

基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現一氣呵成的制作。天津進口灰度光刻3D打印

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機，允許高縱橫比，支持高結構，無需掩模、旋涂和預烘烤或后烘烤。天津進口灰度光刻3D打印

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