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        1. 四川雙光子聚合NanoscribeMEMS

          來源: 發(fā)布時間:2023-09-20

          IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm。Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級別的精確打印,為科學研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性。四川雙光子聚合NanoscribeMEMS

          四川雙光子聚合NanoscribeMEMS,Nanoscribe

          Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。德國科研Nanoscribe子公司更多有關(guān)3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維。

          四川雙光子聚合NanoscribeMEMS,Nanoscribe

          Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾撓到y(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等)。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作。

          德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強了德國高新技術(shù)在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家,超過1500名用戶。大學中已經(jīng)多所正在使用Nanoscribe3D打印機。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院等等。在科研領(lǐng)域,Nanoscribe的系列3D打印設(shè)備幫助推動著諸如超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微納光學,微流道,微機電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。使用Nanoscribe技術(shù)可以制造微米級別的結(jié)構(gòu)和器件。

          四川雙光子聚合NanoscribeMEMS,Nanoscribe

              對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們設(shè)計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn),特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。 微納光學器件制造,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。廣東Nanoscribe中國

          光固化光刻技術(shù),咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。四川雙光子聚合NanoscribeMEMS

          由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡四川雙光子聚合NanoscribeMEMS

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