廣東2PP灰度光刻3D光刻

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢灰度光刻技術(shù)具有高精度、高效率的特點(diǎn)。廣東2PP灰度光刻3D光刻

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹Ｗ鳛槿蝾^一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。浙江高分辨率灰度光刻技術(shù)灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。

Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢

Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用。

Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說(shuō)道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。灰度光刻技術(shù)具有很高的靈活性，可以通過(guò)控制光的幅度和相位。吉林灰度光刻3D光刻

與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，灰度光刻在制造復(fù)雜芯片時(shí)具有明顯的優(yōu)勢(shì)。廣東2PP灰度光刻3D光刻

   Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見(jiàn)即所得。。廣東2PP灰度光刻3D光刻