金華高精度微納3D打印設備

    微納3D打印技術是一種高精度、高分辨率的增材制造技術，其優(yōu)勢特點主要體現在以下幾個方面：高精度和高分辨率：微納3D打印技術可以實現微米級甚至納米級的打印精度，能夠制造出非常精細的結構和零件。這種高精度和高分辨率的特性使得微納3D打印技術在制造微小零件、生物醫(yī)學器件、光學元件等領域具有廣泛應用。材料多樣性：微納3D打印技術可以使用多種材料進行打印，包括金屬、陶瓷、聚合物等。這種材料多樣性使得微納3D打印技術可以滿足不同領域對材料性能的需求。定制化能力強：微納3D打印技術可以根據用戶的需求定制設計，并實現個性化生產。這種定制化能力為設計師提供了更大的設計自由度，可以滿足各種復雜、特異的需求。無需模具：傳統(tǒng)的制造方法通常需要制作模具來生產零件，而微納3D打印技術可以直接將設計好的模型打印成實體，省去了制作模具的步驟，縮短了制造周期，降低了成本。復雜結構制造能力：微納3D打印技術可以制造出具有復雜內部結構的零件，這是傳統(tǒng)制造方法難以實現的。這種復雜結構制造能力使得微納3D打印技術在航空航天、汽車、生物醫(yī)學等領域具有廣泛應用前景。節(jié)省材料：微納3D打印技術采用增材制造的方式，只在需要的地方添加材料。 在科研領域,Nanoscribe 的系列3D打印設備幫助推動著微納光學，微機電系統(tǒng)等等領域的研究和發(fā)展。金華高精度微納3D打印設備

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術，可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現優(yōu)異的打印質量同時兼顧打印速度，適用于微光學制造和光子封裝領域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態(tài)調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。南京科研微納3D打印哪家好Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 微納3D打印。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。 

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。  現階段，3D打印是傳統(tǒng)制造的重要補充，屬于產業(yè)增強。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。  金華高精度微納3D打印設備