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        1. 海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻

          來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-01-16

          隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進(jìn)步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導(dǎo)藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計(jì),甚至可以用這項(xiàng)技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術(shù),通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺(tái)新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您講解3D打印增材制造技術(shù)。海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻

          海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻,增材制造

          Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)的主導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。湖南微納機(jī)器人增材制造Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維告訴您增材制造技術(shù)在工業(yè)制造領(lǐng)域中的意義是什么。

          海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻,增材制造

              Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,它推出了一種新型機(jī)器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?!癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院,現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司,在美國(guó)設(shè)有辦事處。該公司在德國(guó)歷史特別悠久,規(guī)模比較大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一蔡司財(cái)務(wù)的支持。納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強(qiáng)度比較高。

              Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作?!癙hotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產(chǎn)品,在科學(xué)研究中得到了較廣的應(yīng)用,并在哈佛大學(xué)納米系統(tǒng)中心,加州理工學(xué)院,倫敦帝國(guó)理工學(xué)院,蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)和慶應(yīng)義塾大學(xué)使用。 Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討增材制造技術(shù)的行業(yè)發(fā)展。

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          雖然半導(dǎo)體行業(yè)一直在使用3D打印技術(shù),我們可能會(huì)有一個(gè)疑問,為什么我們沒有聽說,一個(gè)因素是競(jìng)爭(zhēng)。如果全球只有四個(gè)龐大的大型公司,它們構(gòu)成了光刻或制造機(jī)器的主要部分,那么這些公司并沒有告訴外界關(guān)于他們應(yīng)用3D打印技術(shù)的內(nèi)幕,因?yàn)樗麄兿氪_保的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。至少,對(duì)外界揭示其優(yōu)化設(shè)備性能的技術(shù),這種主觀動(dòng)機(jī)并不強(qiáng)。增材制造改善半導(dǎo)體工藝是多方面的,從輕量化,到隨形冷卻,再到結(jié)構(gòu)一體化實(shí)現(xiàn),根據(jù)3D科學(xué)谷的市場(chǎng)觀察,增材制造使得半導(dǎo)體設(shè)備中的零件性能邁向了一個(gè)新的進(jìn)化時(shí)代!在許多情況下,3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預(yù)期的工作環(huán)境,而不是在機(jī)器操作上做出妥協(xié)。3D打印帶來的直接好處包括更高的精度、更高的生產(chǎn)能力、更快的周期時(shí)間,甚至使得每臺(tái)機(jī)器每周生產(chǎn)更多的晶圓。某些情況下,還將看到整個(gè)晶片的成像質(zhì)量更高。這將意味著更少的浪費(fèi)和更高質(zhì)量的產(chǎn)品。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司歡迎你一起探討增材制造技術(shù)的現(xiàn)狀和未來趨勢(shì)。浙江MEMS增材制造系統(tǒng)

          如需了解增材制造技術(shù)的應(yīng)用場(chǎng)景請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻

              QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。另外,Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn),這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 海南Nanoscribe增材制造無(wú)掩膜光刻

          納糯三維科技(上海)有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),打造儀器儀表良好品牌。納糯三維憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。

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